發(fā)布時間：2022-11-24 10:19:08 發(fā)布者:市場部 閱讀數(shù)次：4504 次
在當今信息化發(fā)展的大趨勢下，芯片已然成為“剛需品”。盡管芯片的體積很小，卻無處不在，它關系到社會的各個領域，被稱為信息社會的基石和心臟。
光刻機是制造芯片最核心的裝備，由光刻機完成的光刻工藝是芯片制程的最關鍵環(huán)節(jié)。“光刻技術”則是一個更寬泛的概念，它是實現(xiàn)光刻工藝所需要的各種技術的總稱。
先進的光刻技術是世界上最精密的光學系統(tǒng)與精心設計、高度優(yōu)化的光化學材料及精密加工工藝的結合，它驅動了芯片的納米尺度不斷縮小，芯片上晶體管密度不斷提高，保證了“摩爾定律”不斷延續(xù)，從而推動整個信息社會的發(fā)展。
一本系統(tǒng)解讀光刻技術的最新專著
引進自國際光學工程學會（SPIE）
國際光刻技術研發(fā)領軍人物愛德曼最新力作
光刻技術權威專家高偉民博士領銜翻譯
[德]安迪?愛德曼 著
高偉民 徐東波 諸波爾 譯
上海科學技術出版社
ISBN: 978-7-5478-5720-5
定價：195.00元
內容簡介:
本書是一本最新的光刻技術專著，內容涉及該領域的各個重要方面。在介紹光刻技術應用上，涵蓋了全面又豐富的內容；在論述光刻技術的物理機制和數(shù)學模型時，采用了完整而不煩瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述光學光刻技術的基本內容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進的極紫外光刻技術的特點和難點，揭示了極紫外光刻的技術奧秘。本書具有全面、完整、翔實和新穎的特點，它凝聚了作者在光刻領域三十多年科研和教學的精華。
著譯者信息:
安迪?愛德曼
?國際光學工程學會（SPIE）會士，長期從事光刻技術研發(fā)的代表性領軍人物
?德國弗勞恩霍夫協(xié)會（Fraunhofer）下屬集成系統(tǒng)和元器件技術研究所（IISB）計算光刻和光學部門的負責人
?埃朗根大學（University of Erlangen）的客座教授、國際Fraunhofer光刻仿真研討會的組織者
?擁有25年以上的光學光刻和極紫外光刻的研究經(jīng)驗，為多個先進光刻仿真軟件的發(fā)展做出了關鍵貢獻，其中包括光刻仿真軟件Dr. LiTHO的研發(fā)
高偉民
?資深的光刻技術專家
?阿斯麥公司（ASML）中國區(qū)技術總監(jiān)
?曾任職于比利時微電子研發(fā)中心（IMEC）和美國新思科技（Synopsys）
?專注先進光刻技術研發(fā)20多年，擁有16年極紫外光刻技術研發(fā)的豐富經(jīng)驗
?技術專長涵蓋了廣泛的光刻領域，包括光刻工藝開發(fā)、成像技術、分辨率增強技術、計算光刻、先進掩模和設計工藝協(xié)同優(yōu)化技術（DTCO）等
徐東波
?比利時微電子研發(fā)中心（IMEC）研究員，博士攻讀于德國埃朗根弗勞恩霍夫（Fraunhofer IISB）計算光刻和光學小組
?研究方向包括光學光刻和極紫外光刻仿真、光源掩模協(xié)同優(yōu)化（SMO）、光學鄰近效應校正（OPC）建模及圖像處理
諸波爾
?阿斯麥公司（ASML）中國區(qū)計算光刻高級工程師、項目主管
?擁有0.18μm～7nm全節(jié)點計算光刻研發(fā)經(jīng)驗，掌握光源掩模協(xié)同優(yōu)化（SMO）和光學鄰近效應校正（OPC）建模在各制程節(jié)點中的應用與優(yōu)化技術
?研究方向還包括光學光刻和極紫外光刻仿真、光源掩模協(xié)同優(yōu)化（SMO）、光學鄰近效應校正（OPC）建模及圖像處理
本書亮點:
全——本書是一本系統(tǒng)解讀光學光刻技術的最新專著，涵蓋了該領域的各個重要方面，內容全面且豐富；平衡了理論的深度和內容的廣度，有基礎理論的推演，也有應用實例的分析。
精——本書凝聚了作者在光刻領域三十多年科研和教學的精華，對于從事芯片領域的專業(yè)技術人員，這是一本手冊性的內容豐富的參考書。
新——介紹了光刻技術的最新發(fā)展，在論述光刻技術的共性內容后，也較為詳細地介紹了最先進的極紫外光刻技術的特點和難點，從理論上揭示了極紫外光刻的技術奧秘。
讀者對象:
芯片制造、半導體設備、光刻技術等相關方面的技術和管理人員
集成電路、微納電子、光電工程等專業(yè)本科生
短波光學、激光與物質相互作用、激光等離子體、極紫外光輻射等領域的研究生和專業(yè)研究人員
